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鹽城等離子uv光解一體機(jī)

簡要描述:

鹽城等離子uv光解一體機(jī)分為紫外線光解和等離子分解兩個(gè)區(qū)顯示,惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)再到UV紫外線光解區(qū)動力,經(jīng)多級凈化后達(dá)標(biāo)排出鍛造。UV紫外線光解區(qū):利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體兩個角度入手,改變惡臭氣體發展,如氨重要的意義、長期間、硫化氫新的力量、甲硫氫、甲硫醇是目前主流、四硫醚分享、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯便利性、硫化物H2S開展研究、VOC類、苯信息化、甲苯力量、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu),使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線下方式之一,

  • 更新時(shí)間:2025-05-07
  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 產(chǎn)品廠地:常州市
  • 訪問次數(shù):1299
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌加工定制
處理濃度1000mg/l啟燃溫度300℃
處理風(fēng)量100m³/h適用領(lǐng)域制造業(yè)

鹽城等離子uv光解一體機(jī)等離子UV光解一體機(jī)

  一、概述

  低溫等離子除臭+UV光解一體機(jī)分為紫外線光解和等離子分解兩個(gè)區(qū)明確相關要求,惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)再到UV紫外線光解區(qū)市場開拓,經(jīng)多級凈化后達(dá)標(biāo)排出。

  UV紫外線光解區(qū):利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體喜愛,改變惡臭氣體,如氨主要抓手、硫化氫保障、甲硫氫、甲硫醇空間載體、四硫醚體製、二甲二硫要落實好、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S向好態勢、VOC類相對簡便、苯、甲苯更默契了、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)特性,使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線下流程,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物共創輝煌,如CO2、H2O等等特點。再分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧使用,即活性氧。因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合不合理波動,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧建言直達。*,臭氧對有機(jī)物具有*的氧化作用助力各業,對惡臭氣體及其它感激性異味有*的清除效果大部分。有機(jī)惡嗅氣體通過本區(qū)后,凈化運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)建設應用,使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物優化程度、水和二氧化碳,裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵應用的因素之一,破壞細(xì)菌的核酸(DNA)創新延展,再通過臭氧氧化反應(yīng)。

  低溫等離子分解區(qū):采用了*的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計(jì),無需再生處理原料長效機製,無需專人負(fù)責(zé),不產(chǎn)生二次污染聽得進。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置深入,使其產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度全技術方案、高電能的活性自由基基本情況,在毫秒級的時(shí)間內(nèi),瞬間對經(jīng)過UV光解區(qū)進(jìn)入等離子分解區(qū)的氣體內(nèi)殘留的有害分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng)重要的,將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)充分發揮。利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性,持續(xù)地對等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng)高端化,使有害廢氣經(jīng)多級凈化后終達(dá)標(biāo)排放全面展示。

  因此姿勢,我們將低溫等離子除臭+UV光解這兩種處理方案結(jié)合起來。將等離子裝置布置在光解設(shè)備的前段服務,離子裝置產(chǎn)生的O3與有機(jī)廢氣混合后重要平臺,流經(jīng)紫外線燈管。紫外線燈管能進(jìn)一步地觸發(fā)O3的生成選擇適用,同時(shí)在燈管254nm紫外線的催化作用下生動,O3與有機(jī)物的反應(yīng)效能大幅提升,從而取得理想的處理效果結構。由于等離子裝置較紫外燈管高得多的臭氧產(chǎn)生效能適應性強,使得設(shè)備的功耗隨之降低,節(jié)能*競爭力所在。

  二能力建設、技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢

  設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小先進的解決方案,安裝簡單基礎。

  友好的人機(jī)界面、智能化的控制研究進展,操作和維護(hù)簡便易行要素配置改革。

  留有計(jì)算機(jī)接口,方便聯(lián)入中控室控制構建、操作緊密相關。

  可與設(shè)備聯(lián)動(dòng),只需運(yùn)行設(shè)備平臺建設,除異味裝置即可聯(lián)動(dòng)重要組成部分。

  一次性投資,資金適中先進技術。

  設(shè)備功耗低傳承,運(yùn)行時(shí)只需電和少量的水;運(yùn)行費(fèi)用極低。

  設(shè)備可以靈活組合合作,根據(jù)不同廢氣進(jìn)行不同的組合具有重要意義。

  處理后的終產(chǎn)物為二氧化碳和水,無二次污染。

  三勃勃生機、適用行業(yè)及范圍

  噴漆車間、油墨印刷宣講手段、噴涂車間多種、化工、一站式服務、橡膠功能、食品、印染支撐作用、釀造積極性、造紙、煉油廠解決、污水處理廠性能、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體

鹽城等離子uv光解一體機(jī)本產(chǎn)品通過高壓電源產(chǎn)生高磁,通過高磁發(fā)生器向設(shè)備內(nèi)部發(fā)射高磁使UV光紫外燈產(chǎn)生紫外線和臭氧分解惡臭氣體不斷豐富,改變惡臭氣體如:氨方案、硫化氫、甲硫氫同時、甲硫醇實施體系、甲硫醚、二甲二硫幅度、二硫化碳和苯乙烯技術創新,硫化物H2S、VOC類開展研究,苯系物高質量、苯、甲苯力量、二甲苯可靠、苯乙烯、丙酮方式之一、丁酮我有所應、乙酸乙酯、甲醛質生產力、乙醛機構、乙酸乙酯、苯乙烯提升行動、烷烴更適合、烯烴、炔烴交流、芳香烴引人註目、酚、硫化氫溝通協調、硫醇拓展、硫醚、氨活動、胺、吲哚創造更多、硝基、的分子鏈結(jié)構(gòu)好宣講,使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈連日來,在高能紫外線光束照射下,降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物不斷進步,如CO2信息化技術、H2O等。

 

  先利于*高磁對流對有機(jī)廢或無機(jī)廢氣進(jìn)行快速列解分裂打短認為,再利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧責任製,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合良好,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧不合理波動。zui后通過臭氧發(fā)生器制造足夠的氧離子對廢氣進(jìn)行氧化,達(dá)到讓廢氣生成二氧化碳和水的效果薄弱點。 有機(jī)廢氣→對流高磁 光解 O2→O- O*(活性氧)O O2→O3→CO2 H2O(達(dá)標(biāo)排放), *臭氧對有機(jī)物具有*的氧化作用上高質量,對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

 

  惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后效高,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)建設應用,使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳廣度和深度,再通過排風(fēng)管道排出室外應用的因素之一。 四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵日漸深入,破壞細(xì)菌的核酸(DNA)奮勇向前,再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的預期。

 

  一經驗、UV光解等離子一體機(jī)廢氣凈化設(shè)備的性能優(yōu)勢:

 

  ㈠加強宣傳、高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)敢於監督、無機(jī)物、硫化氫互動式宣講、氨氣組建、硫醇類等主要污染物,以及各種惡臭味結構,脫臭效率zui高可達(dá)99%以上深入交流研討,脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)。

 

  ㈡集聚效應、無需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力貢獻,使惡臭/工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)提升。

 

 】焖僭鲩L、纭⑦m應(yīng)性強(qiáng):ZLDL-系列工業(yè)廢氣(工業(yè)廢氣)UV光解等離子一體機(jī)廢氣凈化設(shè)備可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的脫臭適應性強、凈化處理的特性,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠能力建設。

 

 「咝?、琛⑦\(yùn)行成本低:ZLDL-系列工業(yè)廢氣(工業(yè)廢氣)UV光解等離子一體機(jī)廢氣凈化設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作基礎,無噪音領域,無需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查要素配置改革,本設(shè)備能耗低,設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

 

 

 

  二無障礙、UV光解等離子一體機(jī)廢氣凈化設(shè)備的適用場所:

 

  除臭設(shè)備廣泛應(yīng)用于噴漆廠除臭體系、橡膠廠除臭、塑料廠高產、油漆廠除臭註入新的動力、噴涂車間除臭、電子廠除臭帶動產業發展、造紙廠除臭工藝技術、電路板廠、包裝廠除臭、樹脂廠除臭系統、油墨廠除臭、醫(yī)藥廠除臭更加廣闊、飼料廠除臭系統性、涂裝廠除臭、紡織服裝廠除臭、養(yǎng)殖屠宰廠除臭損耗、污水泵站除臭、垃圾處理站除臭、污泥干化站除臭形式、防水材料廠除臭擴大、瀝青廠除臭、電鍍廠除臭傳遞、化肥廠除臭讓人糾結、家具廠除臭、皮革廠除臭動力、煙草除臭不斷豐富、化工廠除臭、冷凍廠除臭多種方式、食品廠除臭同時、造紙廠除臭、印刷廠除臭臺上與臺下、飼料廠除臭幅度、香精廠除臭、污水處理廠除臭效高性、VOC有機(jī)廢氣處理除臭各有優勢、4s店噴漆廢氣除臭、酒店除臭重要的作用、商場除臭資料、生活污水處理等行業(yè)的廢氣處理。

 

  三重要的意義、UV光解等離子一體機(jī)廢氣凈化設(shè)備適用廢氣種類:

 

  除臭設(shè)備適用于:丙酮深入開展、丁酮、乙酸乙酯需求、VOC 、甲醛、乙醛各方面、乙酸乙酯堅定不移、苯系物、占、 苯技術的開發、甲苯、二甲苯更讓我明白了、苯乙烯健康發展、烷烴、烯烴飛躍、炔烴堅實基礎、芳香烴、酚、硫化氫前景、硫醇好宣講、硫醚、氨保障性、胺不斷進步、吲哚、硝基等臭氣和廢氣領先水平。

 

  注:

 

  1認為、惡臭物質(zhì)能否被裂解,取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低效率。

 

  2明確了方向、裂解反應(yīng)的時(shí)間極短(<0.01s),氧化反應(yīng)的時(shí)間需2-3s意料之外。

 

  3、提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足設備,會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸?而生成一些中間副產(chǎn)物橋梁作用,從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機(jī)惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯促進善治。

 

  4講故事、UV光解凈化的長期穩(wěn)定、高效求索,需要反應(yīng)溫度<70℃置之不顧,粉塵量<100mg/m3,相對濕度<99%性能穩定。

 

 

  四試驗、UV光解等離子一體機(jī)廢氣凈化設(shè)備的優(yōu)點(diǎn):

 

  1、采用德國進(jìn)口特種光源發(fā)射管數字化,紫外線UV發(fā)生器壽命長達(dá)八年即70000個(gè)小時(shí)新格局,免費(fèi)質(zhì)保一年半以上。

 

  2開展攻關合作、安全性特點,適用于易燃易爆環(huán)境,適用于大流量水環(huán)境。

 

  3情況正常、安裝簡易方便可以方便的任意折裝製度保障。

 

  4、設(shè)備防高強(qiáng)撞擊和振動(dòng)傷壞不到設(shè)備的發(fā)生器各領域。

 

UV光解等離子一體機(jī) 設(shè)備處理方式紫外光解凈化法采用高能UV紫 外線模式,在光解凈化設(shè)備內(nèi),裂解氧化惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)適應能力,將高分子污染物質(zhì)裂解設施、氧化為低分子無害物質(zhì),其脫臭效率可99%快速增長,脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)要求。

UV光解等離子一體機(jī)處理范圍:

治理油煙粉塵領(lǐng)域:大型火力發(fā)電廠、卷煙廠通過活化、紡織廠開放以來、印刷廠、造紙廠防控、鋼鐵廠組合運用、水泥廠等。

治理廢氣高質量、異味氣體領(lǐng)域:化工廠研究與應用、制藥廠、卷煙廠迎難而上、香精廠有效保障、等。

空氣凈化方面:醫(yī)院更高效、餐飲稍有不慎、賓館場所、等公共場所及辦公室、家庭全面協議、實(shí)驗(yàn)室等。

UV光解等離子一體機(jī)處理方式:

    紫外光解凈化法采用高能UV紫外線堅持先行,在光解凈化設(shè)備內(nèi)講實踐,裂解氧化惡臭物質(zhì)分子鏈,改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)具體而言,將高分子污染物質(zhì)裂解相關性、氧化為低分子無害物質(zhì),其脫臭效率可99%製高點項目,脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)的必然要求。

 


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